• 高周波ジェット噴流液冷プレート、一般的に~とも呼ばれる
高周波ジェット噴流液冷プレート、一般的に~とも呼ばれる

高周波ジェット噴流液冷プレート、一般的に~とも呼ばれる

商品の詳細:

起源の場所: 中国広東省東莞市
ブランド名: Uchi
証明: SMC
モデル番号: ヒートシンク

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最小注文数量: 100個
価格: 1300-1500 dollars
受渡し時間: 制限されていません
支払条件: T/T、ペイパル、ウェスタンユニオン、マネーグラム
供給の能力: 50000000個/月
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詳細情報

応用: 電子機器冷却、産業機械、自動車 サイズ: 280×220×20mm
保護クラス: IP54 追加処理: CNC加工
熱源電力: 30KW 力: 400W
製品寸法: カスタマイズできます 合金かどうか: 合金です
表面粗さ: 1.2μm パッキング: PE袋 カートン
材料: 銅・アルミニウム
ハイライト:

高周波ジェット噴流液冷プレート

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ジェット噴流付き液冷プレート

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高性能液冷プレート

製品の説明

高周波ジェット噴流液冷プレート

 
高周波ジェット噴流液冷プレート(ジェット噴流コールドプレートとも呼ばれる)は、超高熱流束および超高速温度均一化を実現するための特殊な液冷ソリューションです。その中心的なメカニズムは、高周波、高速、高圧のマイクロジェットを加熱面の内部壁に直接噴流させることで、極端な放熱を実現することです。
 

I. コア原理(従来の流路との本質的な違い)

 
従来の液冷プレート:
 
冷却材が密閉された流路内を並列に流れ、熱交換を行います。熱境界層が厚く、熱抵抗が高く、遠隔位置でホットスポットが発生しやすいという特徴があります。
 
高周波ジェット噴流タイプ:
 
  • 冷却材が多数のマイクロノズル(直径0.1~1 mm)の配列を通過します
  • 高速でコールドプレート(加熱面)の内部壁に垂直に噴流します
  • 熱境界層を瞬時に破壊し、局所的な熱伝達係数を5~10倍に増加させます
  • 流体は急速に拡散し、横方向に排出され、全面にわたって極めて均一な温度(温度差 < ±1℃)を実現します
 

II. 標準構造

 
  • アッパーチャンバー(分配チャンバー):圧力を安定させ、冷却材をノズルに均等に分配します
  • ノズルプレート:数百から数千の精密マイクロ穴(高周波ジェットアレイ)を持つコアコンポーネント
  • 噴流チャンバー(熱交換ゾーン):ジェット噴流と集中的な対流熱伝達
  • 液体収集チャンバー/ドレンチャネル:熱を吸収した冷却材を迅速に排出します
 

III. 主要技術的特徴

 
  • 極めて高い放熱能力
     
    熱流束密度:200~1000 W/cm²(一般的なろう付けプレートは約50 W/cm²)
     
    熱抵抗は0.01~0.03 ℃/Wと低い
     
  • 優れた温度均一性
     
    全面温度差:±0.5~±1℃
     
    局所的なホットスポットを完全に排除します
     
  • 高速応答性
     
    熱慣性が低く、精密な温度制御が可能で、過渡的な高出力およびパルス加熱シナリオに適しています
     
  • 比較的高い圧力損失
     
    対応する高圧ポンプ/大流量冷却システムが必要です
     
  • 高い製造精度要件
     
    ノズル穴の直径、深さ、位置の許容誤差:±0.02~±0.05 mm
     
 

IV. 主な製造プロセス

 
  • 精密ドリル加工 + 真空ろう付け
     
    安定した大量生産に適した円形穴アレイに適用可能
     
    一般的な材料:アルミニウム合金/銅合金、ろう付けシール
     
  • フォトリソグラフィ/エッチング + 拡散接合
     
    特殊形状のノズルおよびマイクロスケールのスロットジェットに適用可能
     
    より微細な流路と低い熱抵抗(AI/GPU/レーザー用途向け)
     
  • 3Dプリンティング(SLM)
     
    複雑なトポロジーチャネル+ノズルの一体成形
     
    軽量設計で、カスタマイズされた航空宇宙部品に適しています
     
 

V. 応用シナリオ(極限熱管理)

 
  • AI / スーパーコンピューティングチップ:H100/H200、GPUクラスター、TPU(>500Wチップ)
  • SiC / GaNパワーモジュール:800V電気駆動、超高速充電ステーション
  • 高出力レーザー:ファイバー/半導体/UVレーザー(熱流束>300W/cm²)
  • レーダー/フェーズドアレイ:軍用T/Rコンポーネント、5G/6G基地局
  • 医療画像:MRIグラディエントアンプ、CT検出器(温度制御精度±0.5℃)
  • 航空宇宙:衛星ペイロード、ミサイル誘導(耐振動性、軽量、高熱流束)
 

VI. 従来の液冷プレートとの比較

性能 従来の流路液冷プレート 高周波ジェット噴流液冷プレート
熱流束密度 < 50 W/cm² 200~1000 W/cm²
熱抵抗 0.1~0.5 ℃/W 0.01~0.03 ℃/W
温度均一性 温度差 3~10℃ 温度差 < ±1℃
圧力損失 低(0.5~2 bar) 高(2~8 bar)
応用シナリオ 従来のパワーデバイス 超高熱流束、ホットスポットに敏感、高精度温度制御
 

VII. まとめ

 
高周波ジェット噴流液冷プレートは、現代産業における最先端の液冷技術であり、極限の熱流束、究極の温度均一性、および高精度な温度制御のために特別に設計されています。

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